常見的真空卷繞鍍膜設備按其工作原理可分為：蒸發卷繞鍍膜、磁控濺射卷繞鍍膜和組合式卷繞鍍膜。

　　蒸發式卷繞鍍膜設備根據蒸鍍工藝可分為連續式、半連續式和間歇式三種，因設備結構不同還可分為：單室、雙室和多室卷繞鍍膜設備。主要用于塑料、布、紙、鋼帶等帶狀材料表面真空蒸鍍薄膜，作為食品的金屬化包裝材料、反光材料、保溫隔熱材料、表面裝潢材料、電氣材料以及各種標識、標簽、商標等裝飾材料。廣泛用于包裝、裝潢、印刷、紡織、食品、防偽、卷煙、電子工業等領域。

　　磁控濺射卷繞鍍膜機工作原理與特點：采用磁控濺射(直流、中頻、射頻)方法把各種金屬、合金、化合物、陶瓷等材料沉積到柔性基材上，進行單層或多層鍍膜。

　　適合在柔性基材上鍍制各種介質膜(SiO2,Si3N4,Al2O3,SnO2,ZnO,Ta2O5等)、導電膜(ITO,AZO)、AR減反膜、HR高反膜、低輻射Low-E膜、合金膜和金屬膜(Al,Cr,Cu,Fe,Ni,SUS不銹鋼,TiAl等)主要應用于：柔性線路板、ITO透明導電膜、薄膜電容、汽車/火車/輪船等貼膜、薄膜太陽能電池、柔性太陽能電池FPD平板顯示，柔性顯示器件等方面。